Çʼö È®ÀÎ Á¤º¸ ä¿ë ±â¾÷ SK¸ÓƼ¸®¾óÁî ÆÛÆ÷¸Õ½º ä¿ë À¯Çü ½ÅÀÔ/ÀÎÅÏ ¸ðÁý Àοø 0¸í ±Ù¹« Áö¿ª ¼¼Á¾ ¸ðÁý Á÷¹« ¼ÒÀç±â¼ú Á¢¼ö ±â°£ 2026.04.09 09:00 ~ 2026.04.21 18:00 °í¿ë ÇüÅ Á¤±ÔÁ÷ ÁÖ¿ä ¾÷¹« 1. ÁÖ¿ä ¾÷¹« [¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß] - Á¶¼º ¼³°è ¹× ÇÙ½É ¿øÀç·á(Resin/PAG µî) ±¸Á¶ Design - Litho Æò°¡ DOE ¼ö¸³ / Æò°¡ Data ÇØ¼® / Trouble-Shooting - Á¦Ç°°³¹ß °ü·Ã °í°´»ç ±â¼ú Áö¿ø(ºÒ·® ¿øÀÎ ºÐ¼® µî) 2. Áö¿øÀÚ°Ý (Qualification) - Çз : ¼®»ç ÀÌ»ó - Àü°ø : È­ÇÐ, Àç·á, °íºÐÀÚ °è¿­ Àü°ø 3. Çʼö¿ª·® (Required Skill) [À¯±âÈ­Çп¡ ´ëÇÑ ±âº» ÀÌÇØ] : À¯±âÈ­ÇÕ¹° ¹× ºÐÀÚ °£ »óÈ£ÀÛ¿ëÀ» ÀÌÇØÇϰí, ±¸Á¶–¹°¼º–¼º´É °£ °ü°è¸¦ È­ÇÐÀûÀ¸·Î ¼³¸íÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Çй®Àû Áö½Ä [ÇÙ½É ¿øÀç·á ±¸Á¶ ¼³°è¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ] : ¸ñÇ¥ ¹°¼º È®º¸¸¦ À§ÇØ ÇÙ½É ¿øÀç·á¸¦ ¼³°èÇϰí, ÃÖÀûÈ­µÈ ±¸Á¶ È帱ºÀ» µµÃâÇÏ¿© °³¹ß ¹æÇ⼺À» Á¤ÀÇÇÏ´Â ±â¼ú [¼ÒÀç ºÐ¼®/°ËÁõ¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ] : ¿øÀç·áÀÇ ¹°¼º ¹× ±¸Á¶ µ¥ÀÌÅ͸¦ ÇØ¼®Çϰí, ½Å±Ô ºÐ¼®¹ýÀ» °³¹ß¡¤Àû¿ëÇÏ¿© ¾ç»ê ÀûÇÕ¼ºÀ» °ËÁõ ¹× ÆÇÁ¤ÇÏ´Â ±â¼ú [AI µµ±¸ Ȱ¿ë¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä ¹× ¼ö¿ëµµ] : »ý¼ºÇü AI µµ±¸¸¦ Ȱ¿ëÇÏ¿© Á¤º¸¸¦ Ž»ö¡¤Á¤¸®¡¤ºÐ¼®ÇÏ°í ¿¬±¸°³¹ß ¾÷¹« È¿À²À» ³ôÀÏ ¼ö ÀÖ´Â ¿ª·® ¹× ŵµ 4. ¿ì´ë»çÇ× (Preferred Qualification) - Photo Resist ¶Ç´Â ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀç °³¹ß °æÇè º¸À¯ÀÚ - Lithography Æò°¡ ¶Ç´Â DOE ¼³°è °æÇè º¸À¯ÀÚ - µ¥ÀÌÅÍ ºÐ¼®À» ÅëÇØ ¿¬±¸°³¹ß °úÁ¦ÀÇ ÀλçÀÌÆ®¸¦ µµÃâÇÑ °æÇè º¸À¯ÀÚ 5. ±Ù¹«Áö - ¼¼Á¾ * Áö¿ø¼­ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. * ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼­ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.